名 称:钛 熔 点:1668℃ 符 号:Ti 沸 点:3277℃ 原子量:47.88 密 度:4.506g/cm3 纯 度:2N5 3N5 4N 4N5 5N 产品规格 状态 纯度 尺寸 靶材 4N 4N5 5N 根据要求定制 粉末 2N5 100目-800目 颗粒 棒状 3N5~5N φ3*3mm 6*6mm 丝状 3N5~5N φ0.1-5mm 片状 3N5~5N 1-10mm 产品优点 可提供4N5,5N高纯钛,采用美国进口原料。主要用于生产高纯度溅射靶材和金属颗粒,用于高纯度合金熔炼,蒸发镀膜等领域。 产品用途 磁控溅射镀膜材料等 产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票 产品包装 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装 制作工艺 主要制备方法有:碘化法,熔盐电解法,电子束熔炼法,电子束区熔法等。 研创新材供应高纯钛靶材 尺寸按客户要求定做 高纯颗粒 高纯粉末 纯度99.9-99.999, 研创新材高纯溅射靶材相关产品。铝靶Al,银靶Ag,金靶Au,*靶Co,钼靶Mo,铬靶Cr,铜靶Cu,镍靶Ni,钛靶Ti,锌靶Zn,镁靶Mg,铌靶Nb,锡靶Sn,铟靶In,铁靶Fe,锆靶Zr,铂靶Pt,钽靶Ta,锗靶Ge,硅靶Si,钨靶W,锰靶Mn,铪靶Hf,钆靶Gd,钐靶Sm,镝靶Dy,铈靶Ce,钇靶Y,镧靶La,铼靶Re,钌靶Ru,钯靶Pd,铑靶Rh,铋靶Bi,钛铝Ti-Al,铝硅Al-Si,铝铜Al-Cu,铝钛Al-Ti,银铜Ag-Cu,铝镁Al-Mg,钴铁硼Co-Fe-B,铜铟*Cu-In-Ga,铁锰Fe-Mn,铟锡In-Sn,钴铁Co-Fe,镍钴Ni-Co,镍铁Ni-Fe,镍铬Ni-Cr,镍锆Ni-Zr,镍铝Ni-Al,镍铜Ni-Cu,镍钒Ni-V,钨钛W-Ti,锌铝Zn-Al,铝钛硼Al-Ti-B,铝钪Al-Sc,钒铝铁V-Al-Fe,铜锡Cu-Sn,锆铝Zr-Al,钒铝V-Al,硼铁B-Fe等 陶瓷靶材:氮化硅靶Si3N4,氮化铝靶AIN,氮化硼靶BN,氮化铬靶材CrN,氮化锆靶ZrN,氮化钛靶TiN,碲化镉靶CdTe,二硅化钼靶MoSi2,二硫化钼MoS2,二硼化锆靶ZrB2,二硼化钛靶TiO2,二氧化锆靶ZrO2,二氧化硅靶SiO2,二氧化锰MnO2,二氧化铈靶CeO2,二氧化钛靶TiO2,二氧化锡靶SnO2,氟化钡靶BaF2,氟化钙靶CaF2,氟化铝靶AlF3,氟化镁靶MgF2,氟化铈靶CeF2,硫化镉靶CdS,硫化亚铜Cu2S,硫化锌靶ZnS,硼靶B,硼化铪靶HfB2,三氧化二铬靶Cr2O3,三氧化二锰Mn2O3,三氧化钨靶WO3,钛酸钡靶BaTiO3,钛酸镨靶PrTiO3,石墨靶C,碳化锆靶ZrC,碳化铬靶Cr3C2,碳化硅靶SiC,碳化铪靶HfC,碳化硼靶B4C,碳化钛靶TiC,碳化钨靶W2C,五氧化二铌靶Nb2O5,氧化铒靶Er2O3,氧化钴靶CoO,氧化铪靶HfO2,氧化镓靶Ca2O3,氧化钪靶Sc2O3,氧化铝靶Al2O3,氧化镁靶MgO,氧化镍靶NiO,氧化钕靶Nd2O3,氧化钽靶Ta2O5,氧化铁靶Fe2O3,氧化铜靶CuO,氧化锌靶ZnO,氧化钇靶Y2O3,氧化铟靶In2O3,ITO靶(In2O3+SnO2),AZO靶(ZnO+AL203),LGZO靶,氧化硅铪靶HfO2