研创新材高纯锗靶材 锗颗粒 锗块 锗粉

临沂研创新材料科技有限公司长期供应高纯锗靶材 锗颗粒 锗块 锗粉

锗是一种重要的半导体材料，用于制造晶体管及各种电子装置。

密度（接近室温）：5.323 g·cm?3 

熔点时液体密度：5.60 g·cm?3 

熔点：1211.40 K，938.25 °C，1720.85 °F 

沸点：3106 K，2833 °C，5131 °F 

熔化热：36.94 kJ·mol?1 

汽化热：334 kJ·mol?1 

比热容：23.222 J·mol?1·K?1 

原子性质（Atomic properties）：

氧化态：4, 3, 2, 1, 0, -1, -2, -3, -4

（两性氧化物） 

电负性：2.01（鲍林标度） 

原子半径：122 pm 

原子半径（计算值）：122 pm 

范德华半径：211 pm 

产品名称                     规格尺寸                      产品纯度

锗粒（Ge）              1-10mm                         99.999%  99.9999%  99.99999%

锗粉（Ge）        0.25um—0.5um -200目 -400目     99.999%  99.9999%

锗片（Ge）           0.5mm—3.0mm                    99.999%  99.9999%  99.99999%
我们所能提供的标准包装为：100g   250g   500g   1000g    10kg    25kg   50kg 

  临沂研创新材料科技有限公司长期供应：锗靶Ge，高**属，高纯靶材，以及靶的相关产品。铝靶Al，银靶Ag，金靶Au，钴靶Co，铬靶Cr，铜靶Cu，镍靶Ni，钛靶Ti，锌靶Zn，镁靶Mg，铌靶Nb，锡靶Sn，铟靶In，铁靶Fe，锆靶Zr，铂靶Pt，钽靶Ta，锗靶Ge，硅靶Si，钨靶W，铪靶Hf，钆靶Gd，钐靶Sm，镝靶Dy，铈靶Ce，钇靶Y，镧靶La，铼靶Re，钌靶Ru，钯靶Pd，铑靶Rh，铋靶Bi，钛铝Ti-Al，铝硅Al-Si，铝铜Al-Cu，铝钛Al-Ti，银铜Ag-Cu，铝镁Al-Mg，钴铁硼Co-Fe-B，铜铟镓Cu-In-Ga，铁锰Fe-Mn，铟锡In-Sn，钴铁Co-Fe，镍钴Ni-Co，镍铁Ni-Fe，镍铬Ni-Cr，镍锆Ni-Zr，镍铝Ni-Al，镍铜Ni-Cu，镍钒Ni-V，钨钛W-Ti，锌铝Zn-Al，铝钛硼Al-Ti-B，铝钪Al-Sc，钒铝铁V-Al-Fe，铜锡Cu-Sn，锆铝Zr-Al，钒铝V-Al，硼铁B-Fe，铌锆Nb-Zr等。 
  研创新材高纯陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4，氮化铝靶AIN，氮化硼靶BN，氮化铬靶CrN，氮化锆靶ZrN，氮化钛靶TiN，碲化镉靶CdTe，二硅化钼靶MoSi2，二硫化钼MoS2，二硼化锆靶ZrB2，二硼化钛靶TiB2，二氧化锆靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化锰MnO2，二氧化铈靶CeO2，二氧化钛靶TiO2，二氧化锡靶SnO2，氟化钡靶BaF2，氟化钙靶CaF2，氟化铝靶AlF3，氟化镁靶MgF2，氟化铈靶CeF2，硫化镉靶CdS，硫化亚铜Cu2S，硫化锌靶ZnS，硼靶B，硼化铪靶HfB2，三氧化二铬靶Cr2O3，三氧化二锰Mn2O3，三氧化钨靶WO3，钛酸钡靶BaTiO3，钛酸镧靶LaTiO3， 钛酸镨靶PrTiO3，石墨靶C，碳化锆靶ZrC，碳化铬靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化铪靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化钛靶TiC，碳化钨靶W2C，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化铒靶Er2O3，氧化钴靶CoO，氧化铪靶HfO2，氧化镓靶Ca2O3，氧化钪靶Sc2O3，氧化铝靶Al2O3，氧化镁靶MgO，氧化镍靶NiO，氧化钕靶Nd2O3，氧化钽靶Ta2O5，氧化铁靶Fe2O3，氧化铜靶CuO，氧化锌靶ZnO，氧化钇靶Y2O3，氧化铟靶In2O3，ITO靶（In2O3+SnO2），AZO靶(ZnO+AL203)，LGZO靶，氧化铪靶HfO2。